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  • GMD2000實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)

    實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)是小型化物料處理設(shè)備,專為研發(fā)階段的樣品研磨、分散實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。它通過高剪切或研磨組件,將少量物料(毫升至升級(jí))細(xì)化至微米 / 納米級(jí),精準(zhǔn)控制粒徑,適配醫(yī)藥、材料、食品等領(lǐng)域的配方研發(fā)。設(shè)備體積小、操作便捷,支持多種容器適配,且易清潔防交叉污染,滿足實(shí)驗(yàn)室小批量、高精度的處理需求。

    更新時(shí)間:2025-12-21
    型號(hào):GMD2000
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    瀏覽量:232
  • GM2000催化劑研磨分散機(jī)

    催化劑研磨分散機(jī),是用于催化劑制備的專用設(shè)備,通過剪切、沖擊、研磨作用處理催化劑物料。它能將催化劑顆粒細(xì)化并均勻分散,提升比表面積與反應(yīng)活性,保障催化效率穩(wěn)定。設(shè)備適配多種催化劑類型,可調(diào)節(jié)參數(shù)滿足不同工藝需求,廣泛應(yīng)用于化工、能源等領(lǐng)域的催化反應(yīng)體系。

    更新時(shí)間:2025-12-21
    型號(hào):GM2000
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    瀏覽量:274
  • GRS2000醫(yī)藥二氧hua鈦分散機(jī)

    醫(yī)藥二氧hua鈦分散機(jī)是處理藥用級(jí)二氧hua鈦的專用設(shè)備,通過高剪切、超聲波等作用破解粉體團(tuán)聚。它能將顆粒細(xì)化至規(guī)定粒徑(0.2-0.5μm),實(shí)現(xiàn)窄粒徑分布,保障其作為藥用輔料的增白、遮光效果。設(shè)備符合醫(yī)藥衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn),廣泛用于片劑包衣、藥用油墨等生產(chǎn)場(chǎng)景。

    更新時(shí)間:2025-12-21
    型號(hào):GRS2000
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    瀏覽量:273
  • GMD2000石墨烯NMP漿料研磨分散機(jī)

    石墨烯NMP漿料研磨分散機(jī)是處理該漿料的專用設(shè)備,能破解石墨烯易團(tuán)聚難題。通過高剪切、研磨作用,將漿料顆粒細(xì)化并均勻分散,提升漿料導(dǎo)電性與穩(wěn)定性,適配不同濃度漿料需求。設(shè)備耐 NMP 腐蝕,符合工藝標(biāo)準(zhǔn),廣泛用于新能源、電子等領(lǐng)域的石墨烯漿料制備。

    更新時(shí)間:2025-12-21
    型號(hào):GMD2000
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    瀏覽量:412
  • GMD2000石蠟粉研磨分散機(jī)

    石蠟粉研磨分散機(jī)是處理石蠟粉的專用設(shè)備,通過高剪切、研磨作用破解粉體團(tuán)聚。?它能將石蠟粉細(xì)化至均勻粒徑,實(shí)現(xiàn)窄分布,提升與其他物料的混合相容性,保障后續(xù)產(chǎn)品(如涂料、化妝品)的穩(wěn)定性與質(zhì)感。設(shè)備適配多種工藝,耐磨損易清潔,廣泛用于化工、日化等領(lǐng)域。

    更新時(shí)間:2025-12-21
    型號(hào):GMD2000
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    瀏覽量:420
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